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双光子光刻设备&光刻胶

双光子光刻设备&光刻胶

在实现传统双光子聚合三维直写光刻的同时，与传统双光子激光直写系统最大的区别在于，MPP系列产品 应用了基于边缘光抑制（PPI）效应的高精度三维直写光刻技术。为实现该技术，MPP系列产品在原有加工光束的基础上，引入了另一束曝光抑制光束，两束光通过精确整合对位，共同作用于直写光刻当中，实现了用可见光完成亚50nm尺寸特征结构的直写光刻。MPP系列产品通过引入先进的扫描机构，扩展加工光束通量与应用多种光学测量/校正技术，同时提升了直写光刻的加工效率与加工稳定性，为实现大面积高精度直写光刻提供了出色的解决方案。